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盛美“SAPS兆声波清洗技术”项目荣获2020年度上海市科技进步一等奖!

2021/5/27 13:43:05

 
    5月25日,2020年度上海市科学技术奖公布,盛美半导体设备(上海)股份有限公司“SAPS(空间交变相位移)兆声波清洗技术”项目,在众多评选项目中脱颖而出,荣获科技进步一等奖!

 


 

“SAPS(空间交变相位移)兆声波清洗技术”
 


    为适应半导体行业越来越严苛的要求,盛美半导体设备全球首创了拥有自主知识产权的SAPS(空间交变相位移)兆声波清洗技术,有效解决了硅片表面兆声波能量分布均匀性的产业技术难题。该技术已申请75余件国内外发明专利,依托该技术开发的高端单片兆声波清洗设备进入了国际一流集成电路生产线,客户群包括集成电路芯片制造、硅片制造、先进封装和科研机构,与国际同类非兆声波清洗设备相比,单步清洗的产出成品良率更高。

 
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